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              當前位置 首頁 人才隊伍
              • 姓名: 楊濤
              • 性別: 男
              • 職稱: 正高級工程師
              • 職務: 對外技術服務主管
              • 學歷: 工學博士
              • 電話: 010-82995563
              • 傳真: 010-82995783
              • 電子郵件: tyang@ime.ac.cn
              • 所屬部門: 集成電路先導工藝研發中心
              • 通訊地址: 北京市朝陽區北土城西路3號

                簡  歷:

              • 教育背景

                2003.09-2007.01,大連理工大學,材料表面工程,博士

                2001.09-2003.09,大連理工大學,材料學,碩士

                1997.09-2001.07,大連交通大學,材料科學與工程,學士

                工作簡歷

                2007.07-2009.10,中芯國際集成電路制造有限公司,邏輯技術發展中心

                2009.11至今,中國科學院微電子研究所,集成電路先導工藝研發中心

                社會任職:

              • 平坦化技術聯盟委員

                研究方向:

              • 先進IC制造中新材料和新結構器件的CMP和WET工藝研發

                承擔科研項目情況:

              • 1. 科技部02重大專項:22納米集成電路先導工藝研發

                2. 海歸團隊創新項目的子課題:新型微電子器件及其集成封裝的前瞻性研究 ---子課題:高遷移率器件研究

                3. 國家973項目的二級課題:適用于低溫環境的微納多傳感器MEMS系統基礎研究與新型集成工藝探索

                4. 國家科技重大專項項目的子課題:面向45-22nm 銅互連和三維封裝TSV的PVD設備的工藝模塊開發

                5. 知識創新工程領域前沿項目:基于CMOS技術的薄膜能量收集

                6. 知識創新工程領域前沿項目:15納米若干關鍵工藝技術研究

                7. 知識創新工程領域前沿項目:16納米硅基三維器件

                代表論著:

              • 1、 T. Yang, C. Zhao, G. B. Xu, Q. X. Xu, J. F. Li, W. W. Wang, J. Yan, H. L. Zhu, and D. P. Chen, HfSiON High-k Layer Compatibility Study with TetraMethyl Ammonium Hydroxide (TMAH) Solution, Electrochemical and Solid-State Letters, 15 (5) H141-H144 (2012)

                2、 T. Yang, H. X. Yin, Q. X. Xu, C. Zhao, J. F. Li, D. P. Chen, Dummy Poly Silicon Gate Removal by Wet Chemical Etching, China Semiconductor Technology International Conference 2011 (CSTIC 2011), ECS Transactions - CSTIC 2011, Dry and Wet Etch and Cleaning, volume 34, pp. 361-364

                專利申請:

              • 已申請國內外發明專利20項。

                獲獎及榮譽:

              • 2010及2013年度中國科學院微電子研究所優秀員工 

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